西門子EDI模塊維護。
根據(jù)用戶的數(shù)據(jù)和描述，制定初步的維護計劃。
2.EDI模塊到達工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認無誤后，將EDI模塊安裝在EDI測試機上運行，檢查其異常參數(shù)并進行記錄。
機器檢測和清洗，如有必要進行拆卸檢查，更換內(nèi)部損壞的部件，包括板材、陽離子膜、樹脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機上，進行長達10小時的再生操作，并詳細記錄參數(shù)。

.更新完成后，將向客戶出具EDI組件維護報告和EDI組件損壞判斷報告，幫助業(yè)主更好地使用EDI組件，幫助維護其純水系統(tǒng)。
、維修完成后，重新測試，工廠測試合格后48小時再測試給客戶。
可提供清洗劑及完整的清洗保養(yǎng)方案。
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測反滲透主機運行時的壓力、流量、水質(zhì)指標；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會導(dǎo)致設(shè)備損壞。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點：

1、當模塊長期處于大電流、小流量的運行狀態(tài)時，運行溫度會增加并且不能及時散熱，將會導(dǎo)致兩極膜片受熱變形，導(dǎo)致進出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

2、當EDI模塊長期沒有保養(yǎng)或清洗，將會使得EDI內(nèi)部膜片和通道結(jié)垢，進出水壓差增大，產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流調(diào)節(jié)異常，***終將導(dǎo)致模塊無法使用，影響工作進度。

3、當清洗、保養(yǎng)時使用不合適的藥劑,會使得模塊內(nèi)部樹脂破損，導(dǎo)致進出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導(dǎo)致膜片和樹脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術(shù)人員可以對EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進行診斷并提供維修/再生服務(wù)，***EDI模塊恢復(fù)正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長使用時間。

羅門哈斯離子交換樹脂 主要型號

羅門哈斯拋光樹脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹脂1000NA、4000CL、4200CL等樹脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進行了全自動 EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。