西門(mén)子EDI模塊維護(hù)。
根據(jù)用戶(hù)的數(shù)據(jù)和描述，制定初步的維護(hù)計(jì)劃。
2.EDI模塊到達(dá)工廠(chǎng)后，檢查其外觀(guān)是否損壞。
確認(rèn)無(wú)誤后，將EDI模塊安裝在EDI測(cè)試機(jī)上運(yùn)行，檢查其異常參數(shù)并進(jìn)行記錄。
機(jī)器檢測(cè)和清洗，如有必要進(jìn)行拆卸檢查，更換內(nèi)部損壞的部件，包括板材、陽(yáng)離子膜、樹(shù)脂、隔板、連接線(xiàn)、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機(jī)上，進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)10小時(shí)的再生操作，并詳細(xì)記錄參數(shù)。

工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對(duì)水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來(lái)越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問(wèn)題？
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項(xiàng)。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運(yùn)行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運(yùn)行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測(cè)反滲透主機(jī)運(yùn)行時(shí)的壓力、流量、水質(zhì)指標(biāo)；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備損壞。

很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護(hù)EDI，所以小編就給大家分享一些關(guān)于EDI模塊維護(hù)的要點(diǎn)，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，我們需要根據(jù)其故障現(xiàn)象選擇相應(yīng)的維護(hù)方法。EDI設(shè)備的主要故障是出水量低、水質(zhì)差。
針對(duì)這兩種故障，有不同的維修點(diǎn)，具體如下:
1. 江宇環(huán)保EDI模塊低產(chǎn)水量維護(hù)要點(diǎn):
為了修復(fù)EDI模塊的低產(chǎn)水量，我們需要分析是否是由于內(nèi)部污垢，閥門(mén)和開(kāi)關(guān)狀態(tài)異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內(nèi)部結(jié)垢導(dǎo)致出水量少，則需要清洗;，樹(shù)脂需要清洗，因?yàn)闃?shù)脂往往容易形成污垢;其次，對(duì)每個(gè)管道的管道進(jìn)行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調(diào)整閥門(mén)和開(kāi)關(guān)狀態(tài)。
當(dāng)閥門(mén)沒(méi)有調(diào)整到正確的位置時(shí)(特別是控制出水的閥門(mén))，會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)水量減少，而各部件的開(kāi)關(guān)，特別是流量開(kāi)關(guān)，如果設(shè)置不正確，會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)水量減少。
由此引起的產(chǎn)水量變低，只需調(diào)整閥門(mén)和開(kāi)關(guān)狀態(tài)即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現(xiàn)問(wèn)題，例如泄漏，則需要進(jìn)行維修;如果通過(guò)修理無(wú)法解決問(wèn)題，則需要更換損壞嚴(yán)重的部件。
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超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線(xiàn)管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類(lèi)和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿(mǎn)足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

EDI超純水設(shè)備日常維護(hù)：

　　1、每天需要檢查離心泵和電機(jī)溫度，同時(shí)還要檢查水泵的密封情況。

　　2、定期校正壓力表和流量表。

　　3、定期檢查自動(dòng)閥門(mén)是否有漏水或漏氣的現(xiàn)象。

　　4、每天檢查EDI高純水設(shè)備管道和組件是否有泄露現(xiàn)象。

　　5、檢查EDI高純水設(shè)備連接線(xiàn)是否有松動(dòng)。

　　6、按照要求記錄設(shè)備運(yùn)行參數(shù)，依據(jù)產(chǎn)水量、壓力和產(chǎn)出水水質(zhì)情況判斷設(shè)備是否出現(xiàn)故障，如果運(yùn)行數(shù)據(jù)不穩(wěn)定，需及時(shí)維修。