如果使用沒有添加潤滑劑的拋光液，在研磨拋光過程中應(yīng)該適當(dāng)添加一些拋光冷卻潤滑液。因?yàn)檠心伖忸w粒在隨著研磨方向的變動(dòng)過程中，會(huì)聚集在一起，成為大的顆粒，不單純是原來的微粒等級了，因此需要潤滑液的作用，使得它們在起到作用的同時(shí)，不會(huì)因?yàn)檠心キh(huán)境的干燥而聚集在一起，比較有效地分離開來。

拋光冷卻潤滑液，對金相研磨拋光過程起到良好的冷卻和潤滑作用，同時(shí)還有防腐功能，可有效減少研磨拋光介質(zhì)顆粒對材料表面的損傷，并能提高拋光效果。 對于磨料顆粒極易嵌入到樣品表面的較軟的材料，使用拋光膏，同時(shí)對樣品施加的力值小一些，10N左右，磨盤轉(zhuǎn)數(shù)慢一點(diǎn)，可有效減少嵌入。

金剛石的結(jié)晶形態(tài)豐富，常見有八面體、菱形十二面體、立方體、四面體和六角化八面體等。這些尖銳的棱角，使金剛石具有很強(qiáng)的切削能力，使其拋光，對軟硬材料都有良好的切削作用。如果在合金中存在硬、軟相差懸殊的相，用金剛石微粉拋光可以得到良好的效果。

金剛石拋光劑多以金剛石拋光懸浮液、金剛石拋光膏和金剛石噴霧劑供貨。其常用粒度有15μm、9μm、6μm、3μm和1μm，使用時(shí)可遵循下道拋光顆粒尺寸為上道拋光顆粒的1/3規(guī)則。其中15μm（相當(dāng)于P1200砂紙）一般用來代替較細(xì)砂紙的研磨。一般金屬材料在研磨至P1200砂紙后可直接用3μm金剛石進(jìn)行拋光。

在使用時(shí)，可通過噴霧頭或鶴嘴瓶將適量金剛石拋光液均勻噴灑在拋光布上，切勿用量太多。有些人盲目地認(rèn)為噴灑的拋光液越多則拋光越快，這是一種長久以來的誤解。實(shí)際上，隨著拋光液用量的增加，因?yàn)閽伖庖焊綦x了試樣拋光面和拋光布反而導(dǎo)致了拋光效率的下降，同時(shí)浪費(fèi)拋光液，增加生產(chǎn)成本。切勿在同一張拋光布上混用不同粒度的拋光液，這將導(dǎo)致難以拋除的劃痕。對于一些需要查看真實(shí)孔隙率的試樣則需要用3μm的拋光液進(jìn)行較長時(shí)間的拋光才行。

拋光的主要目的是降低金屬表面粗糙度，提高產(chǎn)品的表面光潔度，進(jìn)一步去除產(chǎn)品表面的細(xì)微，使其外觀更加光滑亮麗，同時(shí)有利于后續(xù)的表面處理(如電鍍、化學(xué)鍍等)。而金剛石拋光液就是將金剛石作為研磨材料，通過添加分散劑等方式使其均勻分散到液體介質(zhì)中，形成具有研磨作用的液體。由于其具有分散性好、粒度均勻、易用性強(qiáng)等特點(diǎn)，因此被廣泛用于硬質(zhì)材料的拋光和打磨。常見的LED行業(yè)、光學(xué)玻璃和寶石加工業(yè)、機(jī)械加工工業(yè)等都離不開金剛石拋光液。

優(yōu)良的制備工藝使其具備分散的優(yōu)良性能。研磨液中的金剛石磨粒能較長時(shí)間處于均勻懸浮的狀態(tài)，具備優(yōu)良的分散性，且能很好的附著在磨拋載體(如磨盤，砂紙，拋光布)上，因其粘結(jié)性使磨拋設(shè)備即使在高速運(yùn)轉(zhuǎn)中金剛石磨粒也不會(huì)流失，損耗極低。高的磨削率和去除率，與普通拋光液相比，在拋質(zhì)量等同情況下，用量節(jié)省30%，時(shí)間節(jié)省60%。

金剛石拋光劑采用優(yōu)質(zhì)的金剛石微粉，以介質(zhì)與助劑，融物理與化學(xué)作用于一體研制而成；粒度分布均勻，顆粒形貌呈球形八面體，故研磨效果好、不易產(chǎn)生劃痕；硬度高，刃口尖銳鋒利，對硬軟材料都有良好的研磨作用，只產(chǎn)生研磨作用而無滾壓，不產(chǎn)生擾亂層；主要用于機(jī)械研磨、拋光硬質(zhì)合金、合金鋼、高碳鋼等高硬材料制件以及金相和巖相試樣的精研等。

多晶金剛石由許多細(xì)小的晶體組成，它們的晶棱提供了大量的刀刃。在試樣制備過程中，這些晶棱有利于磨削，并在試樣表面只留下淺的劃痕。單晶金剛石是塊狀的，只有幾條晶棱。這種金剛石磨削的同時(shí)，試樣表面的劃痕樣式更加反復(fù)無常。對試樣的要求越高，就越選擇P型金剛石,但是M類型金剛石更適合多用途磨拋。