江蘇濱湖真空流量計(jì)回收 江蘇濱湖真空爐回收

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由于 該爐的排氣口 13與氣流導(dǎo)向裝置20的各通氣孔2-3相連通，整個(gè)爐內(nèi)的 一氧化硅與的混合氣體(包括坩堝支持器14下方的混合氣體)能通暢 地排出爐外，整個(gè)爐內(nèi)不存在排氣死角，既有效地防止了一氧化硅氣體對(duì) 加熱器7和坩堝支持器14等石墨器件的腐蝕，還可有效防止雜質(zhì)粉塵吸附 在這些石墨器件上，從而確保了該爐的使用壽命。氣流導(dǎo)向裝置20的一對(duì) 通氣孔2-3與該爐的一對(duì)排氣口 13相對(duì)設(shè)置，縮短了排氣管路的長(zhǎng)度，利 于提高排氣效率。

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為了避免下驅(qū)動(dòng)裝置4受到外界震動(dòng)的影響，進(jìn)而保下驅(qū)動(dòng)裝置4的工作精度，所述底座1和下驅(qū)動(dòng)裝置4之間設(shè)置有減震裝置，所述下驅(qū)動(dòng)裝置4的底端設(shè)置有承載板41，所述承載板41通過(guò)少兩個(gè)螺釘16固定連接在底座1上，所訴減震裝置包括與螺釘16分別一一對(duì)應(yīng)的下減震橡膠墊171和上減震橡膠墊181，所述下減震橡膠墊171套裝在螺釘16的下端部，所述下減震橡膠墊171的底部和底座1抵接，所述下減震橡膠墊171的頂部和承載板41抵接，以便于通過(guò)下橡膠減震171墊吸收從外界傳來(lái)的震動(dòng)，以避免下驅(qū)動(dòng)裝置4受到外界震動(dòng)的影響，所述上減震橡膠墊172套裝在螺釘16的上端部，且所述上減震橡膠墊172與承載板41的上端面壓接，以避免螺釘16的震動(dòng)影響到承載板41。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1　引　言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開(kāi)始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過(guò)程中 ,對(duì)晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對(duì)單晶硅生產(chǎn)過(guò)程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動(dòng)是靠驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動(dòng)的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動(dòng) ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動(dòng)。在實(shí)際單晶爐中 ,對(duì)提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無(wú)級(jí)可調(diào) ,線性精度大于± 2 %

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