中國工業(yè)清洗行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與投資前景動態(tài)預(yù)測報告2024-2030年
【報告編號】: 440256
【出版時間】: 2024年10月
【出版機構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院
【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞
【報告價格】:【紙質(zhì)版】: 6500元 【電子版】: 6800元 【紙質(zhì)+電子】: 7000元

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第1章：中國工業(yè)清洗行業(yè)發(fā)展綜述與環(huán)境分析 15
1.1 行業(yè)定義及分類 15
1.1.1 行業(yè)定義 15
1.1.2 行業(yè)分類 15
（1）按精細度要求分類 15
（2）按清洗方法分類 15
（3）按清洗媒介分類 16
（4）按清洗對象所處狀態(tài)分類 16
1.1.3 行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析 16
1.1.4 工業(yè)清洗的作用 16
（1）提升工業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量 16
（2）提高清潔生產(chǎn)效率 17
（3）利于企業(yè)節(jié)能減排 17
1.2 報告數(shù)據(jù)來源與研究方法 17
1.2.1 報告研究思路概述 17
1.2.2 報告研究方法簡介 18
1.3 行業(yè)外部環(huán)境分析 18
1.3.1 行業(yè)政策環(huán)境分析 18
（1）行業(yè)管理體制 18
（2）行業(yè)相關(guān)國家標準 19
（3）行業(yè)相關(guān)政策與規(guī)劃 19
1.3.2 行業(yè)經(jīng)濟環(huán)境分析 20
（1）國際宏觀環(huán)境分析及預(yù)測 20
（2）國內(nèi)宏觀環(huán)境分析 23
1.3.3 行業(yè)社會環(huán)境分析 26
（1）行業(yè)發(fā)展與社會進步 26
（2）行業(yè)發(fā)展與節(jié)能減排 27
第2章：中國工業(yè)清洗行業(yè)技術(shù)水平分析 28
2.1 行業(yè)技術(shù)水平分析 28
2.1.1 行業(yè)技術(shù)概況 28
2.1.2 行業(yè)主要技術(shù)分析 28
（1）化學清洗技術(shù)水平分析 28
（2）物理清洗技術(shù)水平分析 29
（3）微生物清洗技術(shù)水平分析 30
2.2 行業(yè)新型技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展 30
2.2.1 超聲波清洗技術(shù)研發(fā)進展分析 30
（1）技術(shù)發(fā)展歷程 30
（2）清洗設(shè)備研發(fā)進展 31
（3）清洗溶劑研發(fā)進展 31
2.2.2 激光清洗技術(shù)現(xiàn)狀及前景 31
（1）技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀 31
（2）技術(shù)機理介紹 32
（3）激光清洗的類型 32
（4）激光清洗的應(yīng)用 32
（5）技術(shù)未來展望 33
2.2.3 帶電清洗技術(shù)現(xiàn)狀及前景 33
（1）帶電清理的意義 33
（2）帶電清洗基本原理 34
（3）帶電清理技術(shù) 34
（4）帶電清洗技術(shù)發(fā)展歷程 34
（5）帶電清洗技術(shù)展望 35
2.3 行業(yè)ods清洗技術(shù)替代進展 35
2.3.1 行業(yè)ods情況簡介 35
（1）ods簡介 35
（2）行業(yè)主要ods物質(zhì) 35
（3）ods應(yīng)用 36
2.3.2 中國清洗行業(yè)ods替代品發(fā)展概況 36
（1）ods替代背景 36
（2）中國ods替代品研究開發(fā)情況 36
2.3.3 ods清洗替代技術(shù)分析 38
（1）水清洗技術(shù)分析 38
（2）半水清洗技術(shù)分析 38
（3）溶劑清洗技術(shù)分析 38
（4）免清洗技術(shù)分析 38
（5）lcd替代ods清洗技術(shù)分析 39
2.4 清洗技術(shù)在行業(yè)的應(yīng)用 39
2.4.1 半導體產(chǎn)業(yè)清洗技術(shù)發(fā)展分析 39
（1）半導體清洗技術(shù)發(fā)展概況 39
（2）半導體清洗技術(shù)關(guān)鍵要求 40
（3）半導體清先技術(shù)介質(zhì)選擇 40
1）超臨界清洗劑 41
2）超凝態(tài)過冷動力學清洗 41
3）常壓低溫等離子體清洗 41
4）低溫冷凝噴霧技術(shù) 42
（4）半導體清洗方式的改進 42

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