電鍍?cè)O(shè)備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5、電鍍時(shí)間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9、相對(duì)濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

電鍍企業(yè)，大體上只按容量來確定其大小，比如，500L、800L、I000L、2000L直至l0000L、20000L的鍍槽都有。而其長寬和高度也由各廠家自己根據(jù)所生產(chǎn)的產(chǎn)品的尺寸和車間大小自己來確定，因此，即使是同一種容量的鍍槽，其外形尺寸也不一定是相同的。
至于做鍍槽的材料也是各色各樣的，有用玻璃鋼的，有用硬PVC的，有用鋼板內(nèi)襯軟PVC的，還有用磚混結(jié)構(gòu)砌成然后襯軟PVC，或在地上挖坑砌成的鍍槽，甚至有用花崗巖鑿成的鍍槽，這中間當(dāng)然有不少是不規(guī)范的做法，但卻是我國電鍍加工業(yè)中真實(shí)存在的狀況。

高頻電鍍?cè)O(shè)備是一種非常昂貴的設(shè)備，高頻電鍍?cè)O(shè)備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的，從電鍍?cè)砜芍婂冸娫匆欢ㄊ侵绷麟娫椿蛎}沖電源。各類鍍槽對(duì)電源的要求也不太相同，電鍍時(shí)滑環(huán)的電流、電壓的應(yīng)控制在一定的誤差范圍內(nèi)。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對(duì)電鍍鍍件進(jìn)行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設(shè)備。在晶閘管整流器中主要應(yīng)用“整流”技術(shù)，在高頻開關(guān)電源中既應(yīng)用“整流”技術(shù)又應(yīng)用“逆變”技術(shù)。

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