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化工廠對射激光氣體分析儀

更新時間1:2025-09-29 信息編號:fe2heus8e3561f 舉報維權
化工廠對射激光氣體分析儀
化工廠對射激光氣體分析儀
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化工廠對射激光氣體分析儀
化工廠對射激光氣體分析儀
供應商 陜西卓宇佳創(chuàng)儀器儀表有限公司 店鋪
認證
報價 人民幣 65000.00
關鍵詞 原位激光分析儀,插入式激光氣體分析儀,單臂激光分析儀,TDLAS激光分析儀
所在地 陜西省咸陽市高新技術產業(yè)開發(fā)區(qū)留渭路23號
郭堃
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2年

產品詳細介紹

鋼鐵工業(yè)中的生產過程包括鋼鐵冶煉、焦碳冶煉、軋鋼系統(tǒng)等工藝,在生產過程中會產生大量的可回收能源氣體,分析檢測這些氣體的含量,對于優(yōu)化生產工藝、環(huán)保節(jié)能、安全掌控具有重要的作用。
煉鋼廠的煤氣回收系統(tǒng),較多使用在線取樣的方式進行回收,但在線取樣分析會出現響應時間滯后、維護/標定工作量大、只能檢測“點”氣體濃度等一些客觀問題,使得影響轉爐煤氣回收率。如何衡量一個現代化煉鋼廠生產技術水平?答案是:轉爐煉鋼工序消耗的總能量小于回收的總能量。因此,使用原位對射式激光氣體分析系統(tǒng)是不錯的選擇。
在實際測量過程中,由于激光的頻率純度能夠高度選擇的檢測單的吸收光譜,因此在測量中沒有其它氣體的交叉干擾。原位對射式激光氣體分析系統(tǒng),安裝操作簡單,適合各種復雜的工況環(huán)境,響應速度快,對工藝現場無影響,基本上不需要維護,大大提升了安全性和工作效率。

產品概述:

原位式激光氣體分析儀基于TDLAS 原理,專為原位式氣體測量量身打造。原位式激光 氣體分析儀能夠在各種環(huán)境下應用,特別是在高溫、高壓、高粉塵、強腐蝕等惡劣環(huán)境對氣體濃度等參 數的在線測量。產品響應速度快,可靠性高,穩(wěn)定 性好。調制解調部分采用模塊化設計,維護方便, 運行費用低。能對各類工業(yè)過程氣體、環(huán)保排放煙 氣等過程氣體進行快速、準確、實時的測量。



功能特點:

1. 基于特的數字TDLAS技術。

2. 在線檢測,對氣體濃度進行實時測量。

3. 可根據現場需求輸出 4-20mA/RS485信號。

4. 帶吹掃功能設置,無需對待測氣體進行預處理。

5. 調制解調部分模塊化設計,維護方便,使用靈活。

6. 工控屏可實現人機交互,操作簡單。

7. 性能優(yōu)良,抗干擾能力強,功耗低。

8. 支持測量 CO、CO2、CH4 、O2、C2H4、C2H2 、NH3、H2S、C2H6 氣體。

9. 適用于各種工業(yè)環(huán)境。



應用領域:

. 過程分析

. 冶煉、化工



性能參數:

氣體 跨度校準 零點校準 分辨率 重復性 測量精度 響應時間 漂移
見技術參數 無 無 1%FS. ±1%FS. ±1%FS. 3S ±1%FS.


功能參數:

管道法蘭規(guī)格 吹掃接口規(guī)格 供電 穩(wěn)態(tài)功耗 預熱時間 數字輸出
DN50 Φ8mm(可定制) DC24V <10W 1min 4-20mA/RS485


系統(tǒng)指示:

工作條件 供電參數 DC24V,<10W
吹掃氣體 (0.3~0.8)MPa工業(yè)氮氣
環(huán)境溫度 -10℃~50℃
管道直徑 <5m
技術參數 量程范圍 0-
響應時間 >1s(可調)
線性誤差 ≤±1%全量程
量程漂移 ≤±1%全量程
防爆等級 ExdIICT6
防護等級 IP67

激光在線氧含量分析儀采用TDLAS技術(可調諧半導體激光光譜吸收技術),為目前的氣體測量方法之一,應用于精細化工、新型能源、石油化工、生物制藥、鋼鐵冶煉、焦爐煤氣、發(fā)酵過程監(jiān)測等領域進行實時在線氧氣含量監(jiān)測,針對各種尾氣、反應釜、過程氣中的氧氣含量檢測分析。該儀表具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點,為實時準確地反映氧氣變化提供了可靠。根據工藝點不同,可選擇不同測量參數,監(jiān)測系統(tǒng)能準確測量樣氣中的氣體含量。此系統(tǒng)在吸收國外同類產品優(yōu)點的基礎上,針對目前惰化工藝中氮氣置換保護的特點而設計。該過程分析裝置已成功應用于國內多家生產企業(yè)以及設備生產廠家,為企業(yè)獲得了良好的經濟效益和社會效益,贏得了用戶及生產廠商的好評。

2、整套裝置包括預處理、采樣和分析三部分組成,預處理部分采用分級過濾除塵、渦旋制冷器降溫除水,以此來分析部分的壽命和測量精度,并將檢測到的氣體含量以 4-20mA 的電流信號提供給用戶,用于實現系統(tǒng)工藝自動控制。



二、產品特點:

1、不受背景氣體的影響

傳統(tǒng)非色散紅外光譜吸收技術采用的光源譜帶很寬,其譜寬范圍內除了被測氣體的吸收譜線外,還有很多基他背景氣體的吸收譜線。因此,光源發(fā)出的光除了被待測氣體的多條譜線吸收外還被一些背景氣體的吸收,從而導致測量的不準確性。 而半導體激光吸收光譜技術中使用的半導體激光的譜寬小于 0.001nm,遠小于被測氣體一條吸收譜線的譜寬。如激光在線氣體分析儀測量原理圖所示的“單線吸收光譜”數據。 同時在選擇該吸收譜線時,就在所選吸收譜線頻率附近約 10 倍譜線寬度范圍內無測量環(huán)境中背景氣體組分的吸收譜線,從而避免這些背景氣體組分對被測氣體的交叉吸收干擾,測量的準確性。

所屬分類:流體控制/氣體分析

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