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產(chǎn)品詳細(xì)介紹

電鍍?cè)O(shè)備回收電鍍生產(chǎn)線回收

真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化解決方法：更換蒸發(fā)舟。補(bǔ)充：以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。追問：不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時(shí)間過長(zhǎng)；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對(duì)于總體滲氮處理時(shí)間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達(dá)HV2000--2500。

發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因?yàn)殇X源中含有雜質(zhì)過多，一般純度應(yīng)在4 N或5N以上。無論是涂布機(jī)的真空度不達(dá)標(biāo)，都要達(dá)到10—7倍Pa。（不準(zhǔn)確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項(xiàng)目的潛在設(shè)置不合理。真空擴(kuò)散泵油應(yīng)更換。調(diào)節(jié)蒸發(fā)源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā)，電子束的轟擊位置也應(yīng)該調(diào)整。

真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。

一真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備，工作過程中有高頻電流過程，電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻，避免設(shè)備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，并保持相對(duì)恒溫，反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設(shè)備來準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中，根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求，選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。

真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？這個(gè)問題不能一概而論，要根據(jù)您的具體情況進(jìn)行分析。這里簡(jiǎn)單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點(diǎn)，供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點(diǎn)：（1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復(fù)合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針孔和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有的金屬光澤，光反射率達(dá)到97%；且可以通過涂料

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。

1）所需設(shè)備：CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗過程---進(jìn)片上線臺(tái)---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺(tái)---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結(jié)構(gòu)：采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質(zhì)：碳鋼
　　3.靶材設(shè)計(jì)：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產(chǎn)線采用PLC全過程控制，配備工業(yè)計(jì)算機(jī)人機(jī)交互系統(tǒng)，快速的節(jié)拍設(shè)計(jì)。
　　6.人機(jī)對(duì)話：控制系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)人、機(jī)對(duì)話，及時(shí)對(duì)生產(chǎn)過程進(jìn)行必要干預(yù)。運(yùn)行過程有報(bào)警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動(dòng)系統(tǒng)：滾軸傳動(dòng)，變頻可調(diào)
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產(chǎn)線安采用了的插板閥進(jìn)行腔室隔斷，可以實(shí)現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。
　　10.生產(chǎn)線采用了均勻進(jìn)氣管結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統(tǒng)：擴(kuò)散泵組或分子泵組+機(jī)械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設(shè)施：

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿乜刂颇雍穸?如果運(yùn)用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測(cè)控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的卷繞控制要求的轉(zhuǎn)矩控制，以般采用直流驅(qū)動(dòng)，但是隨著交流驅(qū)動(dòng)技術(shù)的飛速發(fā)展，現(xiàn)在逐步采用交流永磁同步伺服電機(jī)或交流異步電機(jī)驅(qū)動(dòng)。丹佛斯FC302系列驅(qū)動(dòng)器具有伺服級(jí)的驅(qū)動(dòng)性能，驅(qū)動(dòng)交流異步電機(jī)也有實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)的轉(zhuǎn)矩控制，為這個(gè)行業(yè)提供了一種易用的解決方案，用戶只需要設(shè)置幾個(gè)簡(jiǎn)單的參數(shù)，就能滿足實(shí)際生產(chǎn)需求，操作和調(diào)試也非常簡(jiǎn)便。
　　一、懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的傳動(dòng)結(jié)構(gòu)：
　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)檎?br /> 　　放卷轉(zhuǎn)向?yàn)樨?fù)
　　3驅(qū)動(dòng)懸浮式高真空卷繞式鍍膜機(jī)的典型傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，其中：
　　M1為冷卻輥，直徑恒定，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，冷輥的速度即為鍍膜的線速度。
　　M2為收卷輥，中心卷繞，直徑逐步變大，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供收卷張力。
　　M3為放卷輥，中心卷繞，直徑逐步變小，由一臺(tái)FC302驅(qū)動(dòng)，提供放卷張力。
　　冷卻輥和收卷輥的轉(zhuǎn)向是固定的，但是放卷輥由于卷筒卷繞方向不同，工作時(shí)有正、反兩種轉(zhuǎn)向，對(duì)應(yīng)反、正兩種轉(zhuǎn)矩。

　　真空鍍膜機(jī)傳動(dòng)系統(tǒng)的特點(diǎn)：
　　1.由于真空室狹小，無法安裝張力檢測(cè)裝置，所以收、放卷張力完全要靠收、放卷驅(qū)動(dòng)的電機(jī)直接控制。因此收、放卷驅(qū)動(dòng)器都工作于轉(zhuǎn)矩工作模式。對(duì)于較輕較薄的材料，收卷還有張力錐度功能。
　　2.由于工藝方面的原因，起主傳動(dòng)作用的冷卻輥上沒有壓輥，因此冷卻輥只能靠摩擦力帶動(dòng)薄膜；收、放卷張力相差較大時(shí)，薄膜很容易在冷卻輥上打滑。如何防止打滑是驅(qū)動(dòng)控制方面的難題。