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產(chǎn)品詳細介紹

電鍍設(shè)備回收電鍍生產(chǎn)線回收

真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長抽真空時間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化解決方法：更換蒸發(fā)舟。補充：以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。追問：不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長抽真空時間 2, 鍍膜時有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時間過長；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。

1．在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機時，先開水管，工作中應(yīng)隨時注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？這個問題不能一概而論，要根據(jù)您的具體情況進行分析。這里簡單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點，供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復(fù)合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產(chǎn)速度可高達450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針孔和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有的金屬光澤，光反射率達到97%；且可以通過涂料

利摘要顯示，本申請關(guān)于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構(gòu)，滑動機構(gòu)上安裝有驅(qū)動機構(gòu)以及加料機構(gòu)，驅(qū)動機構(gòu)的動力輸出端與加料機構(gòu)傳動連接；加料機構(gòu)的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構(gòu)內(nèi)，加料機構(gòu)與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構(gòu)，攪拌機構(gòu)將儲料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機構(gòu)內(nèi)。實現(xiàn)了在CVD過程中，粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料（如派瑞林）少量、連續(xù)進入管式爐以進行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發(fā)材料的用量，又達到了實時動態(tài)調(diào)整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。

1）所需設(shè)備：CCZK-1350-OGS光學(xué)電子槍鍍膜設(shè)備
　　2）獲得膜層：多層化合物膜層，超硬防水膜層，防指紋膜層，彩色膜層
　　3）涂裝流程：玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
　　4）基本配置：
　　腔體結(jié)構(gòu)：D1350MM*H1350MM 立式單開門
　　腔體材質(zhì)：304不銹鋼
　　轉(zhuǎn)動方式：公自轉(zhuǎn)結(jié)合，穹頂行星式轉(zhuǎn)架
　　蒸發(fā)電源：SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
　　蒸發(fā)阻源：3組
　　電子槍：E型電子槍，磁偏轉(zhuǎn)270°
　　坩 ? ?堝：可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝

今天給大家分享“耐高溫黑色真空鍍膜膜層”這個主題是因為近遇到一個和我們?nèi)粘Ｉ钕⑾⑾嚓P(guān)的項目，我們浦元真空鍍膜主打裝飾性鍍膜，膜層在智能穿戴、3C配件、鐘表首飾等領(lǐng)域應(yīng)用比較廣泛，所以這篇文章對上述領(lǐng)域的五金配件廠家會比較有參考意義。大家如果有需要耐高溫黑色真空鍍膜膜層需求的可以關(guān)注下。?
? ? ? ?這個項目源起品牌方想讓產(chǎn)品外觀顏色更加多元化，進而想在鍋柄、側(cè)耳和提手上使用真空鍍膜工藝，所以為這個廚具品牌代工的鍋具配件加工廠就找到我們。該鍋具配件要求黑色真空鍍膜膜層在260℃高溫下4小時不變色，對了客戶的色板我們進行打樣，結(jié)果次測試230℃的時候膜層就開始發(fā)彩。和品牌方溝通研討后，我們改了工藝，第二次便順利通過了高溫烘烤測試并得到了美國品牌方的認可。其實，一開始品牌方提這個要求的時候我還是覺得挺極端的，但是考慮到使用環(huán)境后，我覺得可以理解。

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當(dāng))。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結(jié)合汪博士開發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅(qū)動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費。控制系統(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設(shè)置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅(qū)動異步電機，又能驅(qū)動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。