真空鍍膜設(shè)備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設(shè)備維護保養(yǎng)進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規(guī)避許多不合格產(chǎn)品的造成，做到節(jié)省成本費用的效果。

對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù)，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設(shè)備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內(nèi)不停地震蕩，并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)，產(chǎn)生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù)，與氣體種類有關(guān)，比如熱偶計，電離真空計。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì)，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應(yīng)較慢，觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦，氬，酒精等。

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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長時間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時放氣，所以這種情況需要維護，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個傳動部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時不好判斷，至于你說的真空1.9的那個其實也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當(dāng)評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是的一項技術(shù)。但是真空鍍膜設(shè)備在使用一段時間后，表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
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