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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。?
對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
3. 開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后,關予抽,開前機和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘后延時及保護燈滅,若后門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
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在簡易隔離式偏壓電源設計中,非對稱半橋反激電路是關鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源,類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動的場效應管(FET)驅(qū)動電感電容濾波器,隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用,調(diào)整濾波器輸出,保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于,電感電路中的耦合繞組和二極管設計巧妙地解決了負載電壓調(diào)節(jié)的難題,通過二極管的直流電壓調(diào)整,提升了負載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場效應管替代,性能將進一步提升。
總結起來,真空多弧離子鍍膜機的偏壓電源是一個精密調(diào)控的系統(tǒng),它通過復雜的電路設計,確保了離子的加速和沉積過程,從而實現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源,每一環(huán)節(jié)都對終的鍍膜效果有著至關重要的影響。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水,來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過程中,真空鍍膜機作為主要設備,工作過程中有高頻電流過程,電導會在反復過程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設備及時地進行冷卻,避免設備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進行溫度調(diào)節(jié),并保持相對恒溫,反復鍍膜會造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據(jù)真空鍍膜加工的實際需求,選用相應規(guī)格的冷水機設備來進行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟有效的解決方案。
真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣?這個問題不能一概而論,要根據(jù)您的具體情況進行分析。這里簡單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點,供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點:(1)大大減少了用鋁量,節(jié)省了能源和材料,降低了成本,復合用鋁箔厚度多為7~9pm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,且生產(chǎn)速度可高達450m/min。(2)具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性,很少出現(xiàn)針孔和裂口,無揉曲龜裂現(xiàn)象,因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。(3)具有的金屬光澤,光反射率達到97%;且可以通過涂料
1)所需設備:CCZK-1350-OGS光學電子槍鍍膜設備
2)獲得膜層:多層化合物膜層,超硬防水膜層,防指紋膜層,彩色膜層
3)涂裝流程:玻璃產(chǎn)品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
4)基本配置:
腔體結構:D1350MM*H1350MM 立式單開門
腔體材質(zhì):304不銹鋼
轉(zhuǎn)動方式:公自轉(zhuǎn)結合,穹頂行星式轉(zhuǎn)架
蒸發(fā)電源:SCR可控硅+大功率蒸發(fā)變壓器
蒸發(fā)阻源:3組
電 子 槍:E型電子槍,磁偏轉(zhuǎn)270°
坩 ? ?堝:可旋轉(zhuǎn)多孔位坩堝
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