對比幾個真空鍍膜機(jī)的檢漏方法:
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機(jī)真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù),因?yàn)闄z漏率,簡單易使用,儀器設(shè)備反映靈敏,,不容易受別的氣體的影響,在檢漏中獲得了廣泛運(yùn)用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理,用氮?dú)庾魇韭怏w做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子,在房間內(nèi)不停地震蕩,并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進(jìn)入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵,這種氦離子在加快靜電場的作用下進(jìn)入到磁場,因?yàn)槁鍌惼澚ψ饔卯a(chǎn)生偏轉(zhuǎn),產(chǎn)生圓弧狀軌道,更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達(dá)接收極而被檢驗(yàn)。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏,鍍膜機(jī)不需要停機(jī),直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀,在懷疑有漏的地方噴氦氣,即可完成檢漏。
有些真空鍍膜機(jī)真空計(jì)的讀數(shù),與氣體種類有關(guān),比如熱偶計(jì),電離真空計(jì)。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì),這些真空計(jì)便成了探測器,一般鍍膜機(jī)上都有真空計(jì),使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計(jì)反應(yīng)較慢,觀察要很仔細(xì)。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)有氦,氬,酒精等。
真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)達(dá)到工藝條件的基本設(shè)備,其真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢,都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致,所以真空卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機(jī)通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏,主要用負(fù)壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機(jī)的真空系統(tǒng),在可能泄漏地方噴氦檢漏。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
真空鍍膜機(jī)為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長時間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時放氣,所以這種情況需要維護(hù),即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜,清理。
2、由微小的滲漏,沒有發(fā)現(xiàn),尤其是各個傳動部位密封,這種情況就是比較難查,如果沒有檢漏儀,就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查,但一般漏的不大時不好判斷,至于你說的真空1.9的那個其實(shí)也并不高,還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計(jì)算的,比如你的真空泵抽速好,抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運(yùn)用薄膜資料作為信息記載于存儲介質(zhì),有其得天厚的優(yōu)勢:因?yàn)楸∧ず鼙∧軌蚴韬鰷u流損耗;磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細(xì)地記載與存儲信息,必定要選用鍍膜技能。
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