濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)點(diǎn)評(píng)某薄膜樣品的功用時(shí)，需求檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的功用。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需求進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問題：，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗(yàn)裝取樣品需求重新進(jìn)行真空的獲得，十分耗時(shí)。增加了出產(chǎn)和檢測(cè)的本錢。

前期清洗真空鍍膜機(jī)可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機(jī)的很多小問題，對(duì)真空鍍膜機(jī)的工作效率和鍍膜質(zhì)量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統(tǒng)中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩(wěn)定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發(fā)射和轟擊。

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