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無錫提拉式長晶爐回收 濾波柜回收聯(lián)系電話單晶硅生長爐原理簡介單晶硅生長爐的特點\單晶硅生長爐是通過直拉法生產單晶硅的制造設備。主要由主機、加熱電源和計算機控制系統(tǒng)三大部分組成。1、主機部分:機架,雙立柱\雙層水冷式結構爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉機構\坩堝提升及旋轉機構\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動爐壓檢測控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源:全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進口IG及超快恢復二極管等功率器件。配以高頻變壓器,構成新一代高頻開關電源。采用移相全橋軟開關(ZVS)及CPU控制技術,提高了電能轉換效率,不需要功率因數(shù)補償裝置。3、計算機控制系統(tǒng):采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機,配備大屏幕觸摸式HMI人機界面、高像素CCD測徑 ADC系統(tǒng)和具有知識產權的“全自動Cz法晶體生長SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”,可實現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉肩—等徑—收尾—停爐全過程自動控制。藍寶石長晶爐回收,多晶硅鑄錠爐回收,提拉式長晶爐回收,多晶長晶爐回收,臥式長晶爐回收,拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收,真空泵回收,真空流量計回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,直拉式單晶生長爐的制作方法、專利名稱:直拉式單晶生長爐的制作方法、技術領域:本發(fā)明涉及一種直拉式單晶生長爐。背景技術:圖1為切克勞斯基(直拉)法制造硅單晶的單晶爐剖面示意圖;圖1-2 中,l為爐筒,2為保溫蓋,3為保溫蓋,4為保溫材津牛,5為保溫罩,6為 加熱器,7為水套,8為石英堝,9為導流筒,IO為爐底護盤、12為輸 入管、11為分布有出氣孔11-1的環(huán)形氣體分布器、13為排氣口。直拉硅單晶在生長過程中需要向爐內不斷充入,并與爐內生成的 一氧化硅及雜質粉塵混合,由于單晶爐內的加熱器和坩堝支持器等均由石 墨制成, 一氧化硅易腐蝕所述石墨制成的器件且雜質粉塵易吸附在這些器 件上,從而影響了單晶爐的使用壽命。
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無錫提拉式長晶爐回收 濾波柜回收聯(lián)系電話除塵機理示、擴散當含塵氣流中的粉塵顆粒粒徑小于1Lm 以下,特別小于0.1Lm 時,這些顆粒在隨氣流運動時不再沿著氣體流線繞流捕集物,因而也再不能遵循慣性碰撞或接觸阻留的機理被捕集物所捕集分離,而另一捕集機理——擴散在起作用。由于氣體分子之間的熱運動而產生的不規(guī)則運動,使氣體分子之間的熱運動而產生的不規(guī)則運動,使氣體分子轟擊著粉塵顆粒而使顆粒作擴散,可以使粉塵顆粒均勻地分布于整個氣體空間。真空技術網(wǎng)(認為如果有一物體置于氣體之中,一些超微顆粒通過擴散而沉降在這物體的表面上,從而使這些超微顆粒從氣體中捕集分離、靜電力懸浮在氣流中的塵粒,如帶有一定的電荷,可以通過靜電力使它從氣流中分離。由于自然狀態(tài)下,塵粒的荷電量很小,因此,要得到較好的除塵效果,設置的高壓電場,使所有的塵粒都充分荷電。凝聚凝聚作用不是一種直接的除塵機理。通過超聲波、蒸汽凝結、加濕等凝聚作用,可以使微小粒子凝聚增大,然后再用一般的除塵方法去除。我們設計除塵器時要根據(jù)不同的具體情況,考慮一定的需要,采用某種除塵機理或者是幾種除塵機理的綜合運用。表1 列出幾種除塵機理的除塵情況供為參考。
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