金鹽回收中的超細粉末處理技術(shù)
納米級金粉（<100 nm）的特殊處理方法：
1. 防團聚措施
表面修飾：
十二烷基硫醇（DDT）單分子層
PEG-2000空間位阻劑
分散工藝：
超聲破碎（20 kHz, 500 W）
微射流均質(zhì)（壓力2000 bar）
2. 干燥技術(shù)
方法 粒徑變化 比表面保留率
噴霧干燥 +50% 60%
冷凍干燥 +15% 85%
超臨界干燥 +5% 95%
3. 安全防護
爆炸下限：60 g/m3（需惰性氣氛保護）
個人防護：
正壓式呼吸器
防靜電工作服
應(yīng)用領(lǐng)域：
導(dǎo)電油墨（粒徑要求20±5 nm）
醫(yī)療顯影劑（需無菌處理）
金鹽回收中的壓擠壓技術(shù)
高壓處理電子廢料實現(xiàn)金屬解離：
設(shè)備參數(shù)
壓力：5-8 GPa（相當(dāng)于地核壓力）
沖頭速度：1-2 mm/s
模具材料：硬質(zhì)合金（HV>2000）
解離效果
物料 解離度 金裸露率
手機主板 95% 90%
CPU芯片 85% 75%
后續(xù)處理：
氣流分選（密度差異）
靜電分離（導(dǎo)電性差異）
優(yōu)勢：
無化學(xué)試劑添加
處理速度200 kg/h
金鹽回收中的選擇性化學(xué)鍍技術(shù)
化學(xué)鍍技術(shù)可在非導(dǎo)電基材上選擇性沉積金層，適用于電子廢料中微米級金線路的回收：
鍍液配方優(yōu)化
組分 濃度范圍 功能作用
氯金酸（HAuCl?） 1-3 g/L 金離子來源
還原劑（DMAB） 2-5 g/L 電子供體（E°=-1.18 V）
絡(luò)合劑（EDTA） 10-15 g/L 穩(wěn)定Au3?，抑制自發(fā)分解
pH調(diào)節(jié)劑 維持7.5-8.5 硼酸鈉緩沖體系
工藝特性
沉積速率：0.5-2 μm/h（40-60°C）
選擇性：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)局部沉積（精度±5 μm）
鍍層性能：
電阻率2.3 μΩ·cm（接近體材料）
結(jié)合力>30 MPa（劃痕測試）
應(yīng)用案例：
日本日礦金屬處理廢棄FPC板，金回收率>98%
缺陷控制：鍍液壽命約8-10個金屬周轉(zhuǎn)（需定期過濾再生）
金鹽回收工廠的數(shù)字化管理
1. 智能倉儲系統(tǒng)
RFID標(biāo)簽追蹤物料批次
自動稱重精度±0.1 kg
2. 數(shù)字孿生應(yīng)用
電解槽電流密度模擬（誤差<3%）
浸出率預(yù)測模型（R2>0.95）
3. 能源優(yōu)化
余熱發(fā)電（ORC系統(tǒng)）
分時電價生產(chǎn)調(diào)度
實施效果（某200t/d工廠）：
金損失減少0.8%（年增收$1.2M）
能耗降低15%
安全事故率下降90%
金鹽回收濕法冶金回收技術(shù)
濕法工藝適合低濃度金鹽回收，核心步驟包括：
浸出系統(tǒng)
氰化浸出：NaCN濃度0.1-0.5%，pH10.5-11.5，DO>6mg/L
非氰浸出：硫脲（CS(NH?)?）體系，濃度1-2%，F(xiàn)e3?作氧化劑
固液分離
板框過濾：精度1μm，處理量2-5m3/h
離心分離：3000rpm，固相含金<0.1g/t
富集提純
活性炭吸附：CIL工藝，金負載量8-15kg/t炭
溶劑萃?。杭谆惗』∕IBK）萃取率>99%
還原沉淀
鋅粉置換：Zn/Au比3:1，反應(yīng)時間30min
草酸還原：pH1.5-2.0，溫度80-90℃
經(jīng)濟性對比：
方法 成本(USD/kg Au) 回收率 適用濃度
氰化 850-1200 98% >1g/t
硫脲 1500-1800 95% 0.1-1g/t
樹脂 2000-2500 92% <0.1g/t
金鹽回收生物冶金回收技術(shù)
生物技術(shù)應(yīng)用進展：
菌種選擇
嗜金屬硫桿菌：氧化Fe2?產(chǎn)生Fe3?氧化劑
芽孢桿菌：分泌氰化物（0.1-0.3mM）
工藝參數(shù)
pH范圍：1.5-2.5（酸性）或9-10（堿性）
溫度：30-45℃
反應(yīng)時間：5-15天
技術(shù)指標(biāo)
浸出率：65-85%
能耗：僅為化學(xué)法的20%
投資成本：$1.2-1.8M/100tpd
局限性：
菌種耐受性：Au濃度>50mg/L時活性抑制
反應(yīng)速率：比化學(xué)法慢10-20倍
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