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使用方法:
1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開(kāi)為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據(jù)使用方式調(diào)拋光機(jī)的轉(zhuǎn)速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調(diào)拋光機(jī)的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。
當(dāng)我們使用了這種拋光液之后，它可以通過(guò)純粹的機(jī)械拋光快速地去除材料，達(dá)到不錯(cuò)的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過(guò)化學(xué)/機(jī)械的拋光方法與材料表面形成反應(yīng)層。雖然柔軟的硅膠去除反應(yīng)層也可以得到一個(gè)的表面，但是在工藝上無(wú)疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們?cè)谧鼋鹣鄷r(shí)，往往都是使用這種可以通過(guò)純粹機(jī)械拋光的拋光液。
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