氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆粒可提供更細(xì)膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。

穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過(guò)程中團(tuán)聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時(shí)，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應(yīng)不同材料的拋光需求。

優(yōu)點(diǎn)：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團(tuán)聚，軟硬度適中，有效避免拋光過(guò)程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。

3.運(yùn)用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無(wú)粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

使用方法:

1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開(kāi)為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據(jù)使用方式調(diào)拋光機(jī)的轉(zhuǎn)速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調(diào)拋光機(jī)的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。

注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●保證拋光液的拋光效率，無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。