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氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑，廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過程中。它由氧化鋁微粒和穩(wěn)定劑組成，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。
氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節(jié)約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結晶，減少清洗成本。
注意事項:
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。
●保證拋光液的拋光效率，無結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質。
