介紹一種電鍍廢水處理裝置，包括電鍍廢水儲(chǔ)存槽、破氰槽、除鉻槽、絮凝槽、沉淀槽、底泥收集槽、底泥干燥粉碎機(jī)、吸附槽以及反滲透處理裝置。電鍍廢水儲(chǔ)存槽包括儲(chǔ)存槽、第二儲(chǔ)存槽以及第三儲(chǔ)存槽，儲(chǔ)存槽與破氰槽連通，破氰槽與第三儲(chǔ)存槽連通，第二儲(chǔ)存槽與除鉻槽連通，絮凝槽與第三儲(chǔ)存槽及除鉻槽均連通，絮凝槽與沉淀槽連通，吸附槽與沉淀槽連通，反滲透處理裝置與吸附槽連通。上述電鍍污水處理裝置可提高電鍍廢水的處理效率而且，單一設(shè)備即可滿足不同電鍍污水廠的不同電鍍污水的處理，節(jié)省了設(shè)備成本；同時(shí)將破氰過(guò)程中電鍍廢水回收利用，減少了電鍍廢水過(guò)程中藥物投放，減少了浪費(fèi)，降低了處理成本。

電鍍?cè)O(shè)備及超聲波清洗設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)為一體，電鍍是一種電化學(xué)過(guò)程，也是一種氧化還原過(guò)程.電鍍的基本過(guò)程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽(yáng)極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。
例如：鍍鎳時(shí)，陰極為待鍍零件，陽(yáng)極為純鎳板，在陰陽(yáng)極分別發(fā)生如下反應(yīng)：
陰極(鍍件)：Ni2++2e→Ni (主反應(yīng))
2H++2e→H2↑ (副反應(yīng))
陽(yáng)極(鎳板)：Ni －2e→Ni2+ (主反應(yīng))
4OH-－4e→2H2O+O2+4e (副反應(yīng))
不是所有的金屬離子都能從水溶液中沉積出來(lái)，如果陰極上氫離子還原為氫的副反應(yīng)占主要地位，則金屬離子難以在陰極上析出.根據(jù)實(shí)驗(yàn)，金屬離子自水溶液中電沉積的可能性，可從元素周期表中得到一定的規(guī)律。
陽(yáng)極分為可溶性陽(yáng)極和不溶性陽(yáng)極，大多數(shù)陽(yáng)極為與鍍層相對(duì)應(yīng)的可溶性陽(yáng)極，如：鍍鋅為鋅陽(yáng)極，鍍銀為銀陽(yáng)極，鍍錫-鉛合金使用錫-鉛合金陽(yáng)極.但是少數(shù)電鍍由于陽(yáng)極溶解困難，使用不溶性陽(yáng)極，如酸性鍍金使用的是多為鉑或鈦陽(yáng)極.鍍液主鹽離子靠添加配制好的標(biāo)準(zhǔn)含金溶液來(lái)補(bǔ)充.鍍鉻陽(yáng)極使用純鉛，鉛-錫合金，鉛-銻合金等不溶性陽(yáng)極。

電鍍?cè)O(shè)備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5、電鍍時(shí)間及電鍍過(guò)程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9、相對(duì)濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

電鍍用的鍍槽包括電鍍生產(chǎn)中各工序的槽體。不光只是電鍍槽，還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽、活化槽，后處理的鈍化槽、熱水槽等。由于電鍍用槽仍然屬于非標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備，其規(guī)格和大小有很大變通空間的設(shè)備。小到燒杯，大到水池都可以用來(lái)做鍍槽，因?yàn)橹灰軐㈠円貉b進(jìn)去而不流失的裝置，就可以做鍍槽用，就是實(shí)際電鍍工業(yè)生產(chǎn)中所用的鍍槽也是五花八門，并沒(méi)有統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)，這種狀況對(duì)加強(qiáng)電鍍管理是不利的。

隨著外國(guó)投資者的進(jìn)入我國(guó)電鍍市場(chǎng)，國(guó)外的電鍍?cè)O(shè)備和槽體也開始在我國(guó)電鍍企業(yè)出現(xiàn)，同時(shí)，已經(jīng)有了不少的電鍍?cè)O(shè)備廠商，電鍍槽的制作水平也越來(lái)越高。相信隨著市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)改革的進(jìn)一步深化，電鍍?cè)O(shè)備制造廠商和行業(yè)協(xié)會(huì)、標(biāo)準(zhǔn)化組織合作將鍍槽容量系列化和標(biāo)準(zhǔn)化，對(duì)于電鍍管理將是一個(gè)重要的貢獻(xiàn)。同時(shí)，生產(chǎn)線的其他部件也采用標(biāo)準(zhǔn)件的形式進(jìn)行制造，鍍槽零件的停留時(shí)間和工藝參數(shù)也采用了柔性化控制系統(tǒng)。
至于鍍槽的使用方式，根據(jù)電鍍生產(chǎn)的操作方式不同而有所不同。有按手工操作的工藝流程生產(chǎn)線直線排列，在排列中按流程會(huì)同時(shí)有多個(gè)鍍種和各種清洗槽和預(yù)處理槽。另一種是按鍍種分別排列，每個(gè)鍍種是一條線。還有因地制宜地根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)空間和鍍槽大小排列，如果是機(jī)械自動(dòng)生產(chǎn)線，則基本上是按工藝流程排列，并且需要有較大的空間以及準(zhǔn)備和輔助工作場(chǎng)地。

電鍍?cè)O(shè)備是按一定電鍍工藝過(guò)程要求將有關(guān)鍍槽、鍍件提升傳運(yùn)裝置、電器控制裝置、電源設(shè)備、過(guò)濾設(shè)備、檢測(cè)儀器、加熱與冷卻裝置、空氣攪拌設(shè)備等組合為一體，通過(guò)機(jī)械和電氣裝置自動(dòng)完成電鍍工序要求的全部過(guò)程，生產(chǎn)，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。我們?cè)谶x擇電鍍?cè)O(shè)備時(shí)，要以“環(huán)保、、”為標(biāo)準(zhǔn)。當(dāng)然，環(huán)保、是首要考慮的因素。電鍍?cè)O(shè)備要達(dá)到性，這是因?yàn)樵陔婂兤冯婂儠r(shí),對(duì)陽(yáng)材的質(zhì)量有著很大的要求,不只是內(nèi)部質(zhì)量,同時(shí)它也會(huì)對(duì)周圍溫度以及其他的電流等任何形式形成影響,而對(duì)于電鍍?cè)O(shè)備來(lái)說(shuō),中間的濃度、鍍液的強(qiáng)度、能不能把雜質(zhì)分解出來(lái),都直接影響著本身的質(zhì)量。電鍍?cè)O(shè)備是否直接影響著電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。