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基本介紹編輯1、主機(jī)部分：機(jī)架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動(dòng)爐壓檢測(cè)控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專(zhuān)利電源或原裝進(jìn)口IG及超快恢復(fù)二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開(kāi)關(guān)電源。采用移相全橋軟開(kāi)關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補(bǔ)償裝置。3、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機(jī)，配備大屏幕觸摸式HMI人機(jī)界面、高像素CCD測(cè)徑ADC系統(tǒng)和具有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“全自動(dòng)CZ法晶體生長(zhǎng)SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實(shí)現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過(guò)程自動(dòng)控制。

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而邊壁的邊界層又是主要影響因素。另一機(jī)理是高濃度塵流中粉塵顆粒的擴(kuò)散與凝聚這對(duì)矛盾中凝聚成為主要矛盾方面。粉塵顆?？梢员舜四墼谝黄稹Ｓ挚赡芘c實(shí)質(zhì)界面凝聚而吸附在其上面。通過(guò)這兩個(gè)機(jī)理，后粉塵從氣體中分離出來(lái)。 排塵過(guò)程排塵過(guò)程主要是經(jīng)分離界面以后已分離出來(lái)的粉塵排離排塵口，不同的除塵器排塵的作用力也不同。有些除塵器不需要再加額外動(dòng)力能利用原捕集分離的外力把粉塵排離除塵器。而另一些除塵器則需要加額外的動(dòng)力才能把已分離的粉塵排出。 排氣過(guò)程已棄塵后相對(duì)凈化的氣流從排氣口排出的過(guò)程稱(chēng)為排氣過(guò)程。上述基本知識(shí)是除塵器、過(guò)濾器設(shè)計(jì)制造的理論基礎(chǔ)。下面具體討論單晶爐領(lǐng)域除塵技術(shù)。