深冷空分制氮原理
深冷制氮不僅可以生產(chǎn)氮氣而且可以生產(chǎn)液氮，滿足需要液氮的工藝要求，并且可在液氮貯槽內(nèi)貯存，當(dāng)出現(xiàn)氮氣間斷負(fù)荷或空分設(shè)備小修時，貯槽內(nèi)的液氮進(jìn)入汽化器被加熱后，送入產(chǎn)品氮氣管道滿足工藝裝置對氮氣的需求。深冷制氮的運轉(zhuǎn)周期（指兩次大加溫之間的間隔期）一般為1年以上，因此，深冷制氮一般不考慮備用。而變壓吸附制氮只能生產(chǎn)氮氣，無備用手段，單套設(shè)備不能連續(xù)長周期運行。

膜空分制氮
以空氣為原料，在一定壓力條件下，利用氧和氮等不同性質(zhì)的氣體在膜中具有不同的滲透速率來使氧和氮分離。和其它制氮設(shè)備相比它具有結(jié)構(gòu)更為簡單、體積更小、無切換閥門、維護(hù)量更少、產(chǎn)氣更快(≤3分鐘)、增容方便等優(yōu)點，它特別適宜于氮氣純度≤98%的中、小型氮氣用戶，有佳功能價格比。而氮氣純度在98%以上時，它與相同規(guī)格的PSA制氮機(jī)相比價格要高出15%以上。

（5）運用范圍廣：
金屬熱處理過程的保護(hù)氣，化學(xué)工業(yè)生產(chǎn)用氣及各類儲罐、管道的充氮凈化，橡膠、塑料制品的生產(chǎn)用氣，食品行業(yè)排氧保鮮包裝，飲料行業(yè)凈化和覆蓋氣，醫(yī)藥行業(yè)充氮包裝及容器的充氮排氧，電子行業(yè)電子元件及半導(dǎo)體生產(chǎn)過程的保護(hù)氣等。純度、流量、壓力穩(wěn)定可調(diào)，滿足不同客戶的需要。
技術(shù)指標(biāo)：
流量：5-1000Nm3/h
純度：95%-99.9995%
露點：≤-40℃
壓力：≤0.8Mpa可調(diào)

冶金行業(yè)制氮機(jī)適用于熱處理、光亮退火、保護(hù)加熱、粉末冶金、銅材鋁材加工、磁性材料燒結(jié)、貴金屬加工、軸承生產(chǎn)等領(lǐng)域。具有純度高、連續(xù)生產(chǎn)、部分工藝要求氮氣含一定量的氫以增加光亮度等特點。

純度
純度是氣體的一個重要技術(shù)參數(shù)。舉氮氣為例，按國標(biāo)氮氣的純度分為工業(yè)用氮氣、純氮和高純氮三級，它們的純度分別為99.5%(O2小于等于0.5%)，99.99%(O2小于等于0.01%)和99.999%(O2小于等于0.001%)。
吸附是氣體中一個或多個組分在多孔固體表面的選擇性濃縮，被吸附的組分稱作吸附介質(zhì)，多孔固體稱為吸附劑。吸附劑與吸附介質(zhì)的連接力是化學(xué)鍵，而吸附介質(zhì)的解析靠升溫或降低該組分在氣壓中分壓。另一種情況是吸附組分與固體吸附劑去化學(xué)反應(yīng)時，稱為化學(xué)吸附，化學(xué)吸附一般情況下不能再生。
膜滲透指在氣體凈化過程中聚合物分離氣體是基于一個或多個氣體組分從膜的一邊選擇性的滲透到另一邊。該組分溶解于聚合物膜的表面，并沿著膜傳遞形成一濃度差，保持此濃度差是靠膜一邊組分的分壓膜另一邊該組分的分壓。