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回收真空鍍膜機生產(chǎn)線設(shè)備 |
面向地區(qū) |
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真空鍍膜機具有高真空度、高沉積速率、均勻性好等優(yōu)點,可以在不同材料和形狀的物體上進行鍍膜。它在電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用,如光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜、硬質(zhì)涂層等。
真空鍍膜機通常由真空腔體、加熱系統(tǒng)、蒸發(fā)源、濺射源、離子源、氣體控制系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。在真空腔體中,通過抽氣系統(tǒng)將氣體抽走,形成高真空環(huán)境。加熱系統(tǒng)用于提供蒸發(fā)源或濺射源所需的熱能,使材料蒸發(fā)或濺射到
蒸發(fā)源是將材料加熱至其熔點或沸點,使其蒸發(fā)到基材上形成薄膜的裝置。濺射源則是通過在材料表面轟擊高能粒子,使其濺射出來,并沉積在基材上。離子源則通過離子轟擊基材表面,使其表面活化并提高薄膜質(zhì)量。
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