蝕刻（etching）又稱為光化學(xué)蝕刻，是把材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

傳統(tǒng)的蝕刻加工方法生產(chǎn)效率低下，污染極為嚴(yán)重，制作而成的蝕刻網(wǎng)有花邊、毛刺、砂眼等質(zhì)量方面的問題。數(shù)印通蝕刻優(yōu)版的出現(xiàn)，完全解決了傳統(tǒng)工藝所存在的缺陷，采用的噴墨印刷軟件和噴墨印刷設(shè)備，完全避免了環(huán)境污染的問題，不僅提高了生產(chǎn)效率，還了蝕刻網(wǎng)的質(zhì)量。

蝕刻的必要性主要在于它能夠通過化學(xué)或電化學(xué)作用，將金屬或其他材料的表面轉(zhuǎn)化為所需要的形狀和圖案。這種技術(shù)不僅能夠大大簡化產(chǎn)品的制造過程，還可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù)，還能實現(xiàn)對材料表面的保護和加工，使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。