化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當(dāng)點(diǎn)評某薄膜樣品的功用時(shí)，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗(yàn)裝取樣品需求重新進(jìn)行真空的獲得，十分耗時(shí)。增加了出產(chǎn)和檢測的本錢。

塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應(yīng)用規(guī)模，如不美觀、易老化、機(jī)械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經(jīng)過真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)資料和塑膠產(chǎn)呂結(jié)合，大大提高了塑膠制品的物理、化學(xué)功能。

定期保養(yǎng)，有人會問常規(guī)保養(yǎng)和定期保養(yǎng)的區(qū)別?事實(shí)上，每個設(shè)備都有使用壽命。例如，用于擴(kuò)散泵的硅油具有大約兩年的使用壽命。我們早點(diǎn)換掉它。這是浪費(fèi)嗎?不，在生產(chǎn)中，設(shè)備故障是不可能發(fā)生的事情。做好日常維護(hù)和定期保養(yǎng)，不僅可以延長設(shè)備的使用壽命，還可以減少運(yùn)行故障，提高生產(chǎn)效率。

真空鍍膜機(jī)應(yīng)在真空過程前對真空材料進(jìn)行清洗，去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機(jī)零部件表面的清潔也是很有必要的，因?yàn)槲廴疚镆鸬臍怏w和蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)無法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

真空鍍膜機(jī)的污染物可以定義為“任何一種無用的物質(zhì)或能量”。多弧離子鍍膜機(jī)根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學(xué)特性而言，它可以是離子態(tài)或共價(jià)態(tài)，無機(jī)態(tài)或有機(jī)態(tài)。
真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時(shí)會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無法正常運(yùn)行。
檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法，簡稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時(shí)，真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。