譜線近萬條基體分析Fe、Al、Cu、Zn等十余種基體

直讀光譜的產(chǎn)生
原子光譜是原子內(nèi)部運(yùn)動(dòng)的一種客觀反映，原子光譜分析是利用各種元素原子結(jié)構(gòu)彼此不同來確定物質(zhì)的組成。直讀光譜儀是原子發(fā)射光譜儀器的一種，因此它的光譜產(chǎn)生原理與其他原子發(fā)射光譜沒有本質(zhì)上的區(qū)別，都是試樣中氣態(tài)原子（或離子）外層電子受激發(fā)后躍遷到較高的能級(jí)，由于外層電子處于較高能級(jí)時(shí)把能量以光輻射的形式發(fā)射出來，產(chǎn)生特征的原子光譜，與其他原子發(fā)射光譜相比，僅僅是激發(fā)的具體方法和應(yīng)用對(duì)象不同而已。
光譜定性、半定量分析
光譜定性分析的任務(wù)主要是判斷試樣中含有那些元素或者是否存在的元素，并粗略地估計(jì)這些元素的大致含量。直讀中抓喲根據(jù)樣品中受邀后發(fā)射的特征譜線來確定元素的存在，。因而正確辨認(rèn)元素譜線是發(fā)射光譜定性分析的關(guān)鍵。在進(jìn)行光譜定性分析時(shí)，并不需要找到元素所有的譜線，一般只需要找到一根或幾根靈敏線即可
光譜半定量分析方法介于定性分析和定量分析之間，可以給出含量近似值。半定量分析方法是以譜線數(shù)目或譜線強(qiáng)度為依據(jù)，常用光譜半定量分析方法有譜線比較法，譜線呈現(xiàn)法、均稱線對(duì)法和加權(quán)因子法等。
因大多數(shù)商品化直讀光譜儀是固定多道式光電直讀光譜儀，直讀的光譜定性或半定量應(yīng)用不廣泛

天瑞直讀光譜儀OES8000s廣泛應(yīng)用于鋼鐵及有色金屬產(chǎn)品元素分析，快速、、穩(wěn)定、可靠測(cè)試幾十種元素，滿足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進(jìn)料檢驗(yàn)、產(chǎn)品分選多方面檢驗(yàn)需求，是生產(chǎn)金屬產(chǎn)品的設(shè)備。
全譜檢測(cè)全面測(cè)試各種金屬和元素
基于CCD檢測(cè)器全譜測(cè)試技術(shù)，全面測(cè)試各種金屬中元素的譜線，方便實(shí)現(xiàn)多基體、多元素的測(cè)試。
配置和補(bǔ)充測(cè)試基體、通道、分析程序極為方便，方便交貨后在客戶處補(bǔ)充測(cè)試元素、分析程序。
國際供應(yīng)商提供核心部件
光譜色散元件——光柵由德國Zeiss/法國JY公司制造，的光譜分辨能力
光譜檢測(cè)器——COMS探測(cè)器由日本濱松制造，確保譜線檢測(cè)靈敏、低噪聲

應(yīng)用領(lǐng)域
金屬材料元素含量測(cè)試是金屬冶煉、鑄造、加工以及機(jī)械行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)控制、質(zhì)量檢驗(yàn)等相關(guān)工作的傳統(tǒng)測(cè)試項(xiàng)目。
天瑞儀器直讀光譜儀廣泛應(yīng)用于鋼鐵、有色金屬材料元素含量分析,可快速、、穩(wěn)定、同時(shí)測(cè)試幾十種分析元素, 滿足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進(jìn)料檢驗(yàn)、產(chǎn)品分選等多方面的需求。
天瑞儀器直讀光譜儀測(cè)試金屬材料元素含量便捷、環(huán)保、低成本，使研發(fā)、生產(chǎn)的過程和質(zhì)量更可控，幫助用戶提升產(chǎn)品的技術(shù)、質(zhì)量水平；同時(shí)加速相關(guān)流程，為用戶創(chuàng)造明顯的經(jīng)濟(jì)效益和環(huán)保效益。直讀光譜儀已成為衡量企業(yè)技術(shù)和質(zhì)量水平的標(biāo)志性設(shè)備。
解決方案
產(chǎn)品分類
行業(yè)應(yīng)用
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光電直讀光譜儀
傳統(tǒng)的光譜檢測(cè)系統(tǒng)為單色儀家光電倍增管（PMT）。20世紀(jì)70年代以來，人們欲利用光電二級(jí)管陣列（SPDA）等光電傳感器以建立三維光譜圖，并發(fā)展相應(yīng)的處理技術(shù)。SPDA不僅能獲得某一波段范圍內(nèi)的檢測(cè)信息，還具有靈活的積分能力，但是它的靈敏度和動(dòng)態(tài)范圍不及PMT，而且噪聲較大，線性范圍窄，暗電流也大，而CCD卻彌補(bǔ)了這些缺點(diǎn)。
CCD具有與光譜儀器密切相關(guān)的一些特性：
（1）靈敏度高，噪聲低。CCD器件具有很高的量子效率，至少為10%，可達(dá)90%以上。它的電荷轉(zhuǎn)移率幾乎達(dá)，它在低溫下工作時(shí)幾乎無暗電流，噪聲幾乎接近于零，新的CCD器件，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了在常溫下具有很高的信噪比，極低的暗電流，完全滿足了儀器在常溫及微量分析上的要求，上述優(yōu)點(diǎn)使CCD器件的靈敏度超過其他探測(cè)器（如PMT何SPDA），檢測(cè)下限達(dá)pg級(jí)甚至fg級(jí)。
（2）光譜范圍寬（200~1050nm）。在可見光區(qū)（400~500nm）量子效率可高達(dá)90%，在遠(yuǎn)紫外區(qū)（200nm）和近紅外（100nm）間，量子效率至少為10%，在100~1100nm寬的光譜區(qū)域，CCD都有很高的量子效率，而大多數(shù)的發(fā)射、吸收和散射的光譜儀器這區(qū)域工作，因此CCD成為各類光譜儀器的理想探測(cè)器。
（3）動(dòng)態(tài)線性響應(yīng)范圍寬，達(dá)10個(gè)數(shù)量級(jí)。CCD具有很寬的響應(yīng)范圍和理想的響應(yīng)線性，達(dá)10個(gè)數(shù)量級(jí)（10?-106），而且在整個(gè)動(dòng)態(tài)響應(yīng)范圍內(nèi)，都能保持線性響應(yīng)，這對(duì)光譜定量分析具有特別意義。
（4）幾何尺寸穩(wěn)定，耐過度曝光。CCD經(jīng)長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)，其幾何性能、熱性能和電性能均很穩(wěn)定，不怕過度曝光，因此比PMT結(jié)實(shí)耐用。
（5）可以同時(shí)多道采樣，得到波長-強(qiáng)度-時(shí)間的三維譜線圖，與光電陰極器件聯(lián)用，可觀察X射線圖像。
金屬直讀光譜儀OES8000全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；分析速度快捷，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
金屬直讀光譜儀OES8000可測(cè)定包括痕量碳（C），磷（P）,（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，基，鋅基，錫基和鉛基。
1、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
2、的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定；
6、開放式的電架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電，電使用壽命更長，并設(shè)計(jì)了電自吹掃功能，清潔電更加容易；
13、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況；
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān)，使儀器具有的適用性；
15、核心器件全部進(jìn)口，了儀器的品質(zhì)。
設(shè)備
高純氬氣——純度99.9以上
交流參數(shù)穩(wěn)壓電源——1KVA
光譜磨樣機(jī)——用于鋼鐵、鎳合金等樣品
小型車床——用于鋁、銅、鋅、合金等樣品
空調(diào)——依實(shí)驗(yàn)室面積配置匹配功率
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
全譜檢測(cè)全面測(cè)試金屬和元素
基于CCD檢測(cè)器全譜測(cè)試技術(shù)，全面測(cè)試金屬中元素的譜線，方便實(shí)現(xiàn)多基體、多元素的測(cè)試。
配置和補(bǔ)充測(cè)試基體、通道、分析程序?yàn)榉奖悖奖憬回浐笤诳蛻籼幯a(bǔ)充測(cè)試元素、分析程序。
的測(cè)試方案
來的風(fēng)直接吹到本裝置）。
金屬元素光譜分析儀OES8000S是的第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國際光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用升級(jí)多基體方便，無須變動(dòng)增加硬件 ；優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 ；高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。






金屬元素光譜分析儀主要特點(diǎn)：
1、可測(cè)定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4、的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定；
6、開放式的電極架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進(jìn)口，了儀器的品質(zhì)。



技術(shù)性能及參數(shù)


1.分光室設(shè)計(jì)
帕邢-龍格結(jié)構(gòu),羅蘭圓直徑350mm
波長范圍140 – 800nm
像素分辨率10pm
恒溫34℃±0.5℃
材質(zhì)鑄造，光室形變小
2.凹面光柵
刻線密度3600l/mm
光譜線色散率：1.2 nm/mm
3.檢測(cè)器
線陣CCD
4.分析時(shí)間
依樣品種類而不同，一般少于30秒
5.激發(fā)光源
全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)
高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)
頻率100-1000Hz
電流1-80A
6.激發(fā)臺(tái)
4mm樣品臺(tái)分析間隙
噴射電極技術(shù)
無待機(jī)流量，低氬氣消耗
7.尺寸和重量
高450mm 長750 mm 寬800 mm
85 kg
8.功率
大功率1500W
待機(jī)功率70W



工作條件


工作溫度：15-30℃
相對(duì)濕度：≤70%
電 源：220±5V，單相50Hz，接地電阻＜1Ω
實(shí)驗(yàn)室無震動(dòng)、粉塵、強(qiáng)電磁干擾、強(qiáng)氣流、腐蝕性氣體
OES8000廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。OES8000全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。