多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng),由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合,實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗(yàn)等工藝全封閉制造,使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中,消除有機(jī)大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。
定期保養(yǎng),有人會問常規(guī)保養(yǎng)和定期保養(yǎng)的區(qū)別?事實(shí)上,每個設(shè)備都有使用壽命。例如,用于擴(kuò)散泵的硅油具有大約兩年的使用壽命。我們早點(diǎn)換掉它。這是浪費(fèi)嗎?不,在生產(chǎn)中,設(shè)備故障是不可能發(fā)生的事情。做好日常維護(hù)和定期保養(yǎng),不僅可以延長設(shè)備的使用壽命,還可以減少運(yùn)行故障,提高生產(chǎn)效率。
暴露在空氣中的真空鍍膜機(jī)表面容易受到污染。污染源有很多,初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學(xué)反應(yīng)、浸出干燥過程、機(jī)械處理、擴(kuò)散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。
?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;
?、谒?操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。
?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
?、芩?、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘留物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等。
?、莪h(huán)境空氣中的拋光殘?jiān)?、灰塵和其他有機(jī)物等。
真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境,尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常,我們需要達(dá)到高的真空度,而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外,真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn),就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分,在設(shè)備加熱時會排入真空室,降低真空度。更有甚者,有些氣體含有有毒成分,直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu),導(dǎo)致設(shè)備無法正常運(yùn)行。
在鍍膜的過程中,由于工件內(nèi)氣體的受熱膨脹,很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開裂。當(dāng)然,這種情況的概率取決于工件本身的物理性質(zhì)。比如容易膨脹的,比如塑料,概率就比較高,而對于堅(jiān)硬的材料,比如金屬,概率就比較低,但也不能忽略。因此,工件的除氣是非常必要的。
與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發(fā)
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華,蒸發(fā)的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下,工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過氣體放電被部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。