浙江南潯直拉式單晶爐回收 浙江南潯控制屏回收
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根據(jù)權(quán)利要求4所述的直拉式單晶生長爐，其特征在于所述氣流 導(dǎo)向裝置(20)的上端部(2-4)的外壁與該爐的保溫筒(17)密封連接。6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的直拉式單晶生長爐，其特征在于所述氣流 導(dǎo)向裝置(20)各通氣孔(2-3)與該爐的排氣口 (13)通過通氣管(19) 相連通。7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的直拉式單晶生長爐，其特征在于所述氣流 導(dǎo)向裝置(20)由石墨制成。藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，大直徑硅單晶的制備與數(shù)值分析\大直徑硅單晶是微電子工業(yè)的基礎(chǔ)材料,廣泛應(yīng)用于集成電路備件和硅片制造領(lǐng)域,是現(xiàn)今信息社會的基石。根據(jù)半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)的報告,大直徑硅單晶的需求依然旺盛,450mm硅單晶要繼續(xù)開發(fā)研究。當前主流集成電路設(shè)備用部件急需400mm硅單晶并提出低成本的要求,開發(fā)400mm硅單晶和研究晶體制備的工藝過程,無疑具有重要的理論意義和現(xiàn)實需求。同時,開發(fā)下一代450mm集成電路用硅晶體、研究外加磁場對改善晶體質(zhì)量的作用,對于我國未來制造450mm硅片具有重要的戰(zhàn)略意義。

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結(jié)合單晶爐提拉系統(tǒng)實際結(jié)構(gòu),進行了系統(tǒng)UG三維實體建模、動平衡數(shù)學建模、計算以及提拉系統(tǒng)動平衡仿真配平工作。系統(tǒng)動平衡分析、計算的結(jié)果明,提拉系統(tǒng)配平效果即動平衡效果是比較好的。隨后,針對某型號單晶爐提拉系統(tǒng)的實際結(jié)構(gòu),進行了提拉系統(tǒng)理論靜不平衡量的大小、相位計算,三維軟件UG建模計算和該設(shè)備“以動測靜”法的平衡實驗