紅外光學鍍膜13709-49-4三氟化釔
氟化釔涂層材料中包含有YF3和少量的YOF,噴涂后形成的涂層具有低氧濃度和硬度,形成更加有效的保護層。同時,氟化釔噴涂涂層在鹵素系氣體氣氛或鹵素系氣體等離子體氣氛中具有的抗腐蝕性,能夠保護基材免受酸堿侵入,從而提高半導體器件的可靠性和穩(wěn)定性。
化學穩(wěn)定性好:常溫下它不溶于水和大多數(shù)有機溶劑,在空氣中相對穩(wěn)定,但存在一定吸濕性,需干燥存儲,其可溶于酸的特性利于材料表面的后續(xù)處理。
熱穩(wěn)定性高:其熔點約為 1152℃,沸點達 2230℃,熱膨脹系數(shù)低,耐熱沖擊性能良好,高溫環(huán)境下鍍膜結構不易受損。
光學性能:它在紫外到紅外波段均具有較高透過率,折射率適中,光學均勻性佳,是紅外低折射率材料。英文名稱:Yttrium Fluoride
分子式:YF3
分子量:145.901109
CAS.13709-49-4
濟寧氟化釔應用
標簽:氟化釔(YF3)薄膜13709-49-4
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