化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

真空鍍膜中常用的塑料，ABS是早運(yùn)用的，是一起滿意三個(gè)條件的塑料，A代表丙烯腈，B代表丁二烯，S代表苯乙烯，塑料中含有以上三種物質(zhì)的便是ABS塑料了，ABS鍍上膜層后，能夠很好的發(fā)揮其機(jī)械功能、抗沖擊性，依靠其硬度大，耐磨損，本錢不高，常常被用于替代某些金屬機(jī)械零部件，也用于出產(chǎn)家用電器的外殼，但由于含有丁二烯，ABS不能在室外運(yùn)用，否則會(huì)變色。

工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當(dāng)工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時(shí)，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對(duì)不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內(nèi)部氣體和水的排放，提高涂層的穩(wěn)定性和均勻性。

與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經(jīng)推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基板的某些功能性和裝飾性。

檢查泄漏情況是真空鍍鈦機(jī)真空度的一種檢查方法，簡(jiǎn)稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統(tǒng)抽氣時(shí)，真空室內(nèi)壓力降低。內(nèi)外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。

在檢漏過程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問題。

，檢查虛漏是否仍為實(shí)漏，因?yàn)楣ぜ?shù)據(jù)加熱后會(huì)出現(xiàn)不同程度的氣體，有可能被誤認(rèn)為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測(cè)試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實(shí)施。

四、得出檢測(cè)儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測(cè)的準(zhǔn)確性。

五、掌握檢漏儀的反應(yīng)時(shí)間和消除時(shí)間，把握好時(shí)間，檢漏儀操作到位，時(shí)間少，檢漏功能一定差，時(shí)間長(zhǎng)，浪費(fèi)檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時(shí)由于操作失誤，在檢漏過程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認(rèn)為孔的方向沒有泄漏，但當(dāng)由于內(nèi)外壓差進(jìn)展或其他原因?qū)е滦孤┛孜炊氯麜r(shí)，泄漏仍在那里。