真空度低解決方法:清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥;檢查抽真空系統(tǒng);降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法:薄膜預(yù)干燥;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過多解決方法:提高車速;降低蒸發(fā)舟電流;降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法:清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法:更換蒸發(fā)舟。 補(bǔ)充: 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了,不好意思。 追問: 不好意思,我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#,我意思說就像發(fā)黃的原因有:1, 真空度過低;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3,鍍膜時(shí)間過長(zhǎng);噴鋁過多 4,鍍膜電流過高
3. 開維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān),延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅,若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí),先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣?這個(gè)問題不能一概而論,要根據(jù)您的具體情況進(jìn)行分析。這里簡(jiǎn)單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點(diǎn),供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復(fù)合材料相比具有以下特點(diǎn):(1)大大減少了用鋁量,節(jié)省了能源和材料,降低了成本,復(fù)合用鋁箔厚度多為7~9pm,而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右,其耗鋁量約為鋁箔的1/140~1/180,且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。(2)具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性,很少出現(xiàn)針孔和裂口,無揉曲龜裂現(xiàn)象,因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。(3)具有的金屬光澤,光反射率達(dá)到97%;且可以通過涂料
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
利摘要顯示,本申請(qǐng)關(guān)于一種真空鍍膜自動(dòng)加料裝置,涉及真空鍍膜領(lǐng)域。該真空鍍膜自動(dòng)加料裝置包括支架,支架上安裝有滑動(dòng)機(jī)構(gòu),滑動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及加料機(jī)構(gòu),驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出端與加料機(jī)構(gòu)傳動(dòng)連接;加料機(jī)構(gòu)的上方還安裝有儲(chǔ)料罐,儲(chǔ)料罐將粉料輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi),加料機(jī)構(gòu)與外部管式爐的進(jìn)料口接駁;其中,儲(chǔ)料罐上還安裝有攪拌機(jī)構(gòu),攪拌機(jī)構(gòu)將儲(chǔ)料罐內(nèi)的粉料均勻的輸送至加料機(jī)構(gòu)內(nèi)。實(shí)現(xiàn)了在CVD過程中,粉末狀態(tài)的蒸發(fā)材料(如派瑞林)少量、連續(xù)進(jìn)入管式爐以進(jìn)行后續(xù)的加熱、升華、裂解工藝,既滿足了蒸發(fā)材料的用量,又達(dá)到了實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整進(jìn)料量的目的,提升了鍍膜效果,并實(shí)現(xiàn)了一種以上的蒸發(fā)材料復(fù)合鍍膜的工藝需求。