基本解釋:[patent] 一項發(fā)明創(chuàng)造的者所擁有的受保護的享權(quán)益。
詳細解釋:?。ㄔ谥袊糯慕忉屖?,2,3)
1、專謀私利?!蹲髠鳌ぐЧ辍罚骸叭魧@詢A王室,不顧楚國,有死不能?!薄妒酚洝ぶ鼙炯o》:“夫榮公好專利而不知大難?!?br />
2、壟斷某種生產(chǎn)或流通以掠取厚利。 漢桓寬《論·復(fù)古》:“古者名山大澤不以封,為天下之專利也?!薄睹魇贰埶木S傳》:“御史郜永春視鹽河?xùn)|,言鹽法之壞,由勢要橫行,大商專利?!?br />
3、專一而敏銳。 北齊顏之推《顏氏家訓(xùn)·勉學(xué)》:“人生幼小,精神專利,長成之后,思慮散逸,固須早教,勿失機也?!?br />
4、專利權(quán)、專利財產(chǎn)權(quán)。
外觀設(shè)計專利
我國《專利法》第二條第四款對外觀設(shè)計的定義是:“外觀設(shè)計是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計?!辈⒃凇秾@ā返诙龡l對其授權(quán)條件進行了規(guī)定:“授予專利權(quán)的外觀設(shè)計,應(yīng)當不屬于現(xiàn)有設(shè)計;也沒有任何單位或者個人就同樣的外觀設(shè)計在申請日以前向?qū)@姓块T提出過申請,并記載在申請日以后公告的專利文件中”,“授予專利權(quán)的外觀設(shè)計與現(xiàn)有設(shè)計或現(xiàn)有設(shè)計特征的組合相比,應(yīng)當具有明顯區(qū)別”,以及“授予專利權(quán)的外觀設(shè)計不得與他人在申請日以前已經(jīng)取得的合法權(quán)利相沖突”。
外觀設(shè)計與發(fā)明、實用新型有著明顯的區(qū)別,外觀設(shè)計注重的是設(shè)計人對一項
產(chǎn)品的外觀所作出的富于藝術(shù)性、具有美感的創(chuàng)造,但這種具有藝術(shù)性的創(chuàng)造,不是單純的工藝品,它具有能夠為產(chǎn)業(yè)上所應(yīng)用的實用性。外觀設(shè)計專利實質(zhì)上是保護美術(shù)思想的,而發(fā)明專利和實用新型專利保護的是技術(shù)思想;雖然外觀設(shè)計和實用新型與產(chǎn)品的形狀有關(guān),但兩者的目的卻不相同,前者的目的在于使產(chǎn)品形狀產(chǎn)生美感,而后者的目的在于使具有形態(tài)的產(chǎn)品能夠解決某一技術(shù)問題。例如一把雨傘,若它的形狀、圖案、色彩相當美觀,那么應(yīng)申請外觀設(shè)計專利,如果雨傘的傘柄、傘骨、傘頭結(jié)構(gòu)設(shè)計精簡合理,可以節(jié)省材料又有耐用的功能,那么應(yīng)申請實用新型專利。
外觀設(shè)計是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計。外觀設(shè)計專利的保護對象,是產(chǎn)品的裝飾性或藝術(shù)性外表設(shè)計,這種設(shè)計可以是平面圖案,也可以是立體造型,更常見的是這二者的結(jié)合。
國家知識產(chǎn)權(quán)局是我國有權(quán)接受專利申請的機關(guān)。國家知識產(chǎn)權(quán)局在全國33個城市設(shè)有代辦處,受理專利申請文件,代收各種專利費用。
申請專利時提交的法律文件采用書面形式,并按照規(guī)定的統(tǒng)一格式填寫。申請不同類型的專利,需要準備不同的文件。
(1)申請發(fā)明專利的,申請文件應(yīng)當包括:發(fā)明專利請求書、說明書(必要時應(yīng)當有說明書附圖)、權(quán)利要求書、摘要及其附圖(具有說明書附圖時須提供)。
(2)申請實用新型專利的,申請文件應(yīng)當包括:實用新型專利請求書、說明書、說明書附圖、權(quán)利要求書、摘要及其附圖。
(3)申請外觀設(shè)計的,申請文件應(yīng)當包括:外觀設(shè)計專利請求書、圖片或者照片,以及外觀設(shè)計簡要說明。
關(guān)于權(quán)利要求書的撰寫,權(quán)利要求書應(yīng)當以說明書為依據(jù),說明發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)特征,限定專利申請的保護范圍。在專利權(quán)授予后,權(quán)利要求書是確定發(fā)明或者實用新型專利權(quán)范圍的根據(jù),也是判斷他人是否侵權(quán)的根據(jù),有直接的法律效力。權(quán)利要求分為立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。立權(quán)利要求應(yīng)當從整體上反映發(fā)明或者實用新型的主要技術(shù)內(nèi)容,它是記載構(gòu)成發(fā)明或者實用新型的必要技術(shù)特征的權(quán)利要求。從屬權(quán)利要求是引用一項或多項權(quán)利要求的權(quán)利要求,它是一種包括另一項(或幾項)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征,又含有進一步加以限制的技術(shù)特征的權(quán)利要求。進行權(quán)利要求的撰寫十分嚴格、準確、具有高度的法律和技術(shù)方面的技巧。
我國《專利法》第六條規(guī)定:“執(zhí)行本單位的任務(wù)或者主要是利用本單位的物質(zhì)技術(shù)條件所完成的發(fā)明創(chuàng)造為職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造。職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造申請專利的權(quán)利屬于該單位;申請被批準后,該單位為專利權(quán)人。
非職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造,申請專利的權(quán)利屬于發(fā)明人或者設(shè)計人;申請被批準后,該發(fā)明人或者設(shè)計人為專利權(quán)人。
利用本單位的物質(zhì)技術(shù)條件所完成的發(fā)明創(chuàng)造,單位與發(fā)明人或者設(shè)計人訂有合同,對申請專利的權(quán)利和專利權(quán)的歸屬作出約定的,從其約定?!?br />
《專利法》第六條所稱執(zhí)行本單位的任務(wù)所完成的職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造,是指:
(1)在本職工作中做出的發(fā)明創(chuàng)造;
(2)履行本單位交付的本職工作之外的任務(wù)所做出的發(fā)明創(chuàng)造;
(3)退職、退休或者調(diào)動工作后1年內(nèi)做出的,與其在原單位承擔的本職工作或者單位分配的任務(wù)有關(guān)的發(fā)明創(chuàng)造。
《專利法》第六條所稱本單位,包括臨時工作單位;《專利法》第六條所稱本單位的物質(zhì)技術(shù)條件,是指本單位的資金、設(shè)備、零部件、原材料或者不對外公開的技術(shù)資料等。
先用權(quán),是指某項發(fā)明創(chuàng)造在專利人提出專利申請前,如果另一發(fā)明人已經(jīng)在制造相同產(chǎn)品或使用相同方法,或已經(jīng)作好制造、使用的必要準備的,法律允許其不受專利權(quán)人權(quán)的限制,仍有權(quán)在原有的范圍內(nèi)繼續(xù)制造或使用該發(fā)明創(chuàng)造。先用權(quán)適用的前提是兩個以上發(fā)明人或單位分別立地完成相同的發(fā)明,其中一人取得了專利權(quán),其他人因未申請或晚申請沒有獲得專利權(quán)的情形,享有權(quán)的條件是,另一個發(fā)明人在申請人提出申請之日前,已經(jīng)制造相同產(chǎn)品或使用相同方法,或者已為制造或使用作好必要準備,并且這種使用不構(gòu)成公開使用。權(quán)的實施旨在保護相同發(fā)明中沒有專利權(quán)的發(fā)明人的低利益。
專利權(quán)可分為國內(nèi)權(quán)和國際權(quán)。
1.國內(nèi)權(quán)
國內(nèi)權(quán),又稱為“本國權(quán)”,是指專利申請人就相同主題的發(fā)明或者實用新型在外國次提出專利申請之日起12個月內(nèi),又向我國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局提出專利申請的,可以享有權(quán)。在我國權(quán)制度中不包括外觀設(shè)計專利。
2.國際權(quán)
國際權(quán),又稱“外國權(quán)”,其內(nèi)容是:專利申請人就同一發(fā)明或者實用新型在外國次提出專利申請之日起12個月內(nèi),或者就同一外觀設(shè)計在外國次提出專利申請之日起6個月內(nèi),又在中國提出專利申請的,中國應(yīng)當以其在外國次提出專利申請之日為申請日,該申請日即為權(quán)日。