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除塵器內(nèi)的空間由圓柱容器經(jīng)上、下蓋密封形成，整個空間分成兩大區(qū)域：除塵區(qū)域和排氣區(qū)域。含塵氣流由切線進(jìn)氣口進(jìn)入除塵區(qū)域，沿外壁由下而上螺旋形旋轉(zhuǎn)運動。氣流作旋轉(zhuǎn)運動時，塵粒在慣性離心力的推動下，要向圓柱容器內(nèi)壁移動。到達(dá)內(nèi)壁的塵粒在氣流和重力的共同作用下，沿壁面落到容器底部。這種情況，離心力是除塵器的主要作用力，塵粒與氣流分離界面是圓柱容器的內(nèi)壁。還有，圓柱容器內(nèi)設(shè)置內(nèi)外兩層金屬網(wǎng)，內(nèi)層金屬網(wǎng)纏繞于內(nèi)側(cè)的6 根金屬桿上。外層金屬網(wǎng)纏繞于外側(cè)的8 根金屬桿上。這14 根金屬桿被固定在上盤和盤上。它們固聯(lián)于圓柱容器上法蘭。圓柱容器設(shè)置的排氣筒是排氣區(qū)域。

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因此,避免提拉系統(tǒng)的晃動是單晶爐結(jié)構(gòu)設(shè)計的關(guān)鍵點之一。在生產(chǎn)實際中發(fā)現(xiàn),某型號單晶爐的提拉系統(tǒng)在工作轉(zhuǎn)速接近13~14r/min范圍時,提拉系統(tǒng)的軟軸會出現(xiàn)明顯的晃動,這個問題一直制約著晶體生長的質(zhì)量和生產(chǎn)效率的提高。以前雖然提出過很多的解決措施,但其效果均不明顯。本文擬采用有限元分析的方法,對單晶爐的提拉系統(tǒng)進(jìn)行分析,找出引起提拉系統(tǒng)軟軸晃動分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，專利文獻(xiàn)CN1205362C公開了 一種直拉硅單晶爐熱場的氣流控制方 法及裝置，其包括在單晶爐晶體生長室內(nèi)的石墨加熱器和保溫筒間裝有密 封導(dǎo)氣裝置，使含有一氧化硅的氣體的氣流經(jīng)密封導(dǎo)氣裝置的導(dǎo)氣管 及排氣口，在真空泵的作用下，排出爐外。密封導(dǎo)氣管裝置由導(dǎo)氣管、底 座、密封環(huán)、排氣口所組成，安裝在石墨加熱器和保溫筒之間。上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處在于單晶爐的坩堝支持器下方的混合氣體 不能有效的排出，從而使混合氣體中的一氧化硅對加熱器和坩堝進(jìn)行腐蝕， 影響單晶爐的使用壽命。且其向爐內(nèi)充入時的充氣氣壓在1. 3xi0a 以上，導(dǎo)致其流量較大，故而消耗量大，生產(chǎn)成本較高。