鍍層與基材的分離技術(shù)
化學(xué)剝離法（適用于鍍鉻、鍍鎳層）：
工藝參數(shù)：
槽體浸入 20% 硫酸 + 5% 硝酸混合液（溫度 60-80℃），反應(yīng) 2-4 小時至鍍層完全溶解；
剝離液中 Cr3?濃度可達 5-10g/L，Ni2?可達 8-15g/L。
環(huán)保控制：剝離過程需在密閉反應(yīng)釜中進行，尾氣經(jīng)堿液吸收（防止氮氧化物揮發(fā)）。
電解剝離法（適用于貴金屬鍍層）：
將電鍍鍋作為陽極，不銹鋼板作為陰極，在氯化鈉電解液（濃度 100-150g/L）中通電（電流密度 20-30A/dm2），鍍層金屬以離子態(tài)進入溶液，再于陰極還原沉積。

電鍍設(shè)備回收可能是企業(yè)遇到的常見問題之一。企業(yè)可能會遇到以下情況:設(shè)備老化、合同到期、企業(yè)關(guān)閉等。在這種情況下，申鍍設(shè)備回收是一種必要的選擇?；厥赵O(shè)備不僅可以為企業(yè)提供更好的資源利用，還可以保護環(huán)境。

拆解前安全處理：
清空殘留電鍍液，使用容器收集，標(biāo)注 “含氰化物”“含重金屬” 等屬性；
對設(shè)備進行斷電、泄壓處理，拆除電氣元件前需檢測是否帶電。