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基本介紹編輯1、主機(jī)部分：機(jī)架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動(dòng)爐壓檢測(cè)控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進(jìn)口IG及超快恢復(fù)二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開關(guān)電源。采用移相全橋軟開關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補(bǔ)償裝置。3、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機(jī)，配備大屏幕觸摸式HMI人機(jī)界面、高像素CCD測(cè)徑ADC系統(tǒng)和具有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“全自動(dòng)CZ法晶體生長SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實(shí)現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過程自動(dòng)控制。

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特點(diǎn)編輯HD系列硅單晶爐的爐室采用3節(jié)設(shè)計(jì)。上筒和上蓋可以上升并向兩邊轉(zhuǎn)動(dòng)，便于裝料和維護(hù)等。爐筒升降支撐采用雙立柱設(shè)計(jì)，提高穩(wěn)定性。支撐柱安裝在爐體支撐平臺(tái)的上面，便于平臺(tái)下面設(shè)備的維護(hù)。爐筒升降采用絲杠提升技術(shù)，簡(jiǎn)便干凈。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，進(jìn)一步提供了一種加料器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的具體結(jié)構(gòu)，所述加料器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置包括旋轉(zhuǎn)電機(jī)、旋轉(zhuǎn)絲桿、旋轉(zhuǎn)套和固定座，所述旋轉(zhuǎn)套鉸接在拖板上，所述旋轉(zhuǎn)絲桿可旋轉(zhuǎn)地支承在固定座上，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)安裝在固定座上，所述旋轉(zhuǎn)絲桿的一端部和旋轉(zhuǎn)電機(jī)的輸出軸相連接，所述旋轉(zhuǎn)絲桿的另一端部和旋轉(zhuǎn)套通過螺紋連接，所述加料器旋臂鉸接在拖板上，以便通過旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)絲桿在旋轉(zhuǎn)套內(nèi)旋進(jìn)旋出，使得固定座產(chǎn)生位移，并使固定座帶動(dòng)加料器旋臂旋轉(zhuǎn)。進(jìn)一步為了方便副爐室移動(dòng)到取晶位，并方便副爐室的拆解、清理，連續(xù)拉晶單晶爐還包括副爐室升降驅(qū)動(dòng)裝置和副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述所述副爐室通過副爐室旋臂連接在副爐室升降驅(qū)動(dòng)裝置上，以便通過副爐室升降驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)副爐室旋臂升降，并通過副爐室旋臂帶動(dòng)副爐室升降，所述副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接在副爐室升降驅(qū)動(dòng)裝置和副爐室旋臂之間，以便使得副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置隨副爐室旋臂一起升降，并通過副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)副爐室旋臂旋轉(zhuǎn)，副爐室旋臂又帶動(dòng)副爐室旋轉(zhuǎn)。