真空度低解決方法：清潔真空室內(nèi)的送鋁、蒸鍍裝置、冷卻系統(tǒng)、放卷、卷取裝置及導(dǎo)輥；檢查抽真空系統(tǒng)；降低環(huán)境濕度。 ②薄膜釋放氣體 解決方法：薄膜預(yù)干燥；延長(zhǎng)抽真空時(shí)間。 ③噴鋁過多解決方法：提高車速；降低蒸發(fā)舟電流；降低送鋁速度。 ④蒸發(fā)舟內(nèi)有雜質(zhì) 解決方法：清潔蒸發(fā)舟及熱屏蔽板。 ⑤蒸發(fā)舟老化 解決方法：更換蒸發(fā)舟。 補(bǔ)充： 以上不知道有沒有幫助。鍍鋁發(fā)霧的問題我就不知道了，不好意思。 追問： 不好意思，我沒有說你才疏學(xué)淺的意思- -#，我意思說就像發(fā)黃的原因有：1, 真空度過低;延長(zhǎng)抽真空時(shí)間 2, 鍍膜時(shí)有其他放氣源影響鍍膜效果,比如夾具或膠紙 3，鍍膜時(shí)間過長(zhǎng)；噴鋁過多 4，鍍膜電流過高

3. 開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

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在簡(jiǎn)易隔離式偏壓電源設(shè)計(jì)中，非對(duì)稱半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過同步降壓電路提供隔離電源，類似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動(dòng)的場(chǎng)效應(yīng)管(FET)驅(qū)動(dòng)電感電容濾波器，隨后通過分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用，調(diào)整濾波器輸出，保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于，電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計(jì)巧妙地解決了負(fù)載電壓調(diào)節(jié)的難題，通過二極管的直流電壓調(diào)整，提升了負(fù)載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場(chǎng)效應(yīng)管替代，性能將進(jìn)一步提升。

總結(jié)起來，真空多弧離子鍍膜機(jī)的偏壓電源是一個(gè)精密調(diào)控的系統(tǒng)，它通過復(fù)雜的電路設(shè)計(jì)，確保了離子的加速和沉積過程，從而實(shí)現(xiàn)的涂層工藝。無論是直流還是脈沖電源，每一環(huán)節(jié)都對(duì)終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領(lǐng)域,
JTPZ多功能鍍膜技術(shù)及設(shè)備（加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機(jī)），針對(duì)汽車、摩托車燈具而設(shè)計(jì)的，在一個(gè)真空室內(nèi)完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護(hù)膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應(yīng)用于光學(xué)產(chǎn)品、磁記錄介質(zhì)、軍事保護(hù)膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。

離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對(duì)于總體滲氮處理時(shí)間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備與技術(shù)(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術(shù)。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當(dāng)比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復(fù)合膜等，顯微硬度高達(dá)HV2000--2500。

裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置，在真空室中利用電阻加熱法，將緊貼在電阻絲上的金屬絲（鋁絲）熔融汽化，汽化了金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑高反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

　　可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。

　　鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴、七彩等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。