關鍵詞 |
懸浮性好氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液聯系方式,蘭州氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液電話 |
面向地區(qū) |
全國 |
目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點,廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型,其中常見的為α、β、γ等,一般選用50~200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點,適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
使用與用量:
推薦用量為1~20%,使用者應根據不同體系經過試驗決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀,建議使用前先搖勻。
◆ 使用時,以不同濃度并據不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋,調制不同濃度。
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